快科技3月26日讯息，莫斯科市长谢尔盖·索比亚宁(Sergei Sobyanin)公开晓示快播av，来自莫斯科的泽列诺格勒纳米中心(Zelenograd Nanotechnology Center)，也曾完成了俄罗斯第一台350nm光刻机的研发职责，行将批量投产。
早在2023年，俄罗斯就露馅，将在2024年坐蓐350nm光刻机，2026年坐蓐130nm光刻机，承担这些任务的包括莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡、新西伯利亚的多家工场。
2024年5月，俄罗斯露馅已完成第一台国产光刻机的拼装，并正在测试，可坐蓐350nm芯片。
谢尔盖·索比亚宁目下公布了俄罗斯国产350nm光刻机的第一张什物相片。
他强调：“大家有才调制造这种半导体关键确立的国度不及10个，俄罗斯也曾踏进其中。这是俄罗斯迈向微电子国产化、完了手艺安谧的关键一步。”
据他露馅，俄罗斯的光刻机和番邦近似确立截然有异，莫得使用汞灯手脚光源，而是初次使用固体激光器，具有功率大、能效高、寿命长、光谱鸠集的上风。
同期，俄罗斯光刻机的职责区域面积达到了22x22毫米，最大可制造200mm直径晶圆。
值得一提的是，我国中科院研发见效的DUV激光光源手艺，亦然十足基于固态臆想打算，有望激动至3nm节点，仅仅目下还存在功率、频率偏低的不及。
350nm工艺看起来很过期，但依然不错满足汽车、动力、通讯等界限的部分需求，况且俄罗斯正在不竭激动130nm光刻机的研发职责，瞻望来岁即可完成。
另外，俄罗斯也曾掌捏65nm工艺制造手艺，但依赖海外入口确立，目下也正在为65nm国产化作念准备。
